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| 走査型プローブ顕微鏡 |
SPI No.50 |
MFM
analysis of magnetization process in CoPt dot-array |
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SPI No.36 |
SPMによる強誘電体薄膜への記録再生 |
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SPI No.32 |
大型ステージユニットSPA-500によるハードディスクの磁気力顕微鏡（MFM）測定 |
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SPI No.31 |
大型ステージユニットSPA-500によるGMRヘッドの磁気力顕微鏡（MFM）測定 |
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SPI No.22 |
ダブルコーティング・ビデオテープのMFM観察 |
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SPI No.08 |
Siウェハ上のCOP・異物観察 |
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SPI No.07 |
シリコン単原子ステップの観察 |
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NPX No.25 |
原子間力顕微鏡（AFM）と電子顕微鏡（SEM）の画像の比較Ⅰ（Nanopics） |
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NPX No.24 |
液晶配向膜成膜条件の評価（Nanopics） |
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NPX No.23 |
高性能ポリイミドフィルムの表面処理評価（Nanopics） |
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NPX No.21 |
Pbフリー半田めっきの表面粗さ（Nanopics） |
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NP XNo.19 |
液晶ディスプレイ製作工程評価（Nanopics） |
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NPX No.08 |
アルミニウム基盤の研磨処理（Nanopics） |
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NPX No.07 |
ボンディング不良電極端子めっき表面の形状評価（Nanopics） |
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NPX No.06 |
液晶パネル用ガラス（Nanopics） |
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NPX No.05 |
サーマルプリンタヘッドと用紙（Nanopics） |
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NPX No.04 |
ポリイミドフィルムの表面処理評価（Nanopics） |
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| 集束イオンビーム |
SMI No.03 |
 最新デバイスのSIM像断面 |
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SMI No.01 |
EガスとAutoBitmapソフトウェアを用いたLSI平坦化加工テクニック |
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FIB No.06 |
低加速モード加工 |
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FIB No.05 |
高倍率の観察 |
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FIB No.04 |
マルチガスシステムの応用 |
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FIB No.03 |
TEM試料作製 |
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| ICP分析 |
ICP No.39 |
ICP発光分光分析法による固体試料直接分析法（レーザーアブレーションによる分析） |
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ICP No.19 |
ICP発光分光分析法によるサマリウム－コバルト磁性体の分析 |
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