X線発生系として、X線集光光学系（キャピラリ）とX線源を組み合わせ、実照射0.1mmφ以下での高輝度X線ビーム照射を可能としています。これにより、従来の蛍光Ｘ線膜厚計では照射強度不足で十分な精度が得られなかった、リードフレーム、コネクタ、フレキシブル基板等の微小・薄膜の測定に対応できるようになりました。また、高計数率、かつ高分解能の半導体検出器の搭載により、めっき製品の膜厚測定に加え、欧州RoHS、ELVで規制されている有害物質の、微小部における測定にも対応できます。