| 概要 |
X線発生系として、X線集光光学系（キャピラリ）とX線源を組み合わせ、実照射0.1mmφ以下での高輝度X線ビーム照射を可能としています。これにより、従来の蛍光Ｘ線膜厚計では照射強度不足で十分な精度が得られなかった、リードフレーム、コネクタ、フレキシブル基板等の微小・薄膜の測定に対応できるようになりました。また、高計数率、かつ高分解能の半導体検出器の搭載により、めっき製品の膜厚測定に加え、欧州RoHS＆ELVで規制されている有害物質の、微小部における測定にも対応できます。 |
| 特長 |
1.
薄膜・多層膜測定
キャピラリの採用による微小ビーム（0.1ｍｍφ）の高輝度化の効果により、金めっき膜厚測定においては従来の最大50倍（当社比）のX線強度を検出することで、数ナノメートルの薄膜を精度良く測定します。また、Au/Pd/Ni/CuやAu/Ni/Ti/Si等の多層膜における各層厚みを同時に高精度測定できます。
2. マッピング測定
微小ビームによるマッピング測定により、試料のめっき厚み分布や特定元素の含有分布を容易に且つ迅速に観察できます。
3. 欧州RoHS、ELV規制対応の有害物質測定
高分解能の半導体検出器（液化窒素レス）を搭載し、測定試料中の微量元素の検出を可能としており、電気・自動車製品の部材として使用される鉛フリーはんだや無電解ニッケルに含まれる鉛等の規制有害物質の含有量を測定できます。
4. 異物分析
高輝度微小ビームと高計数率検出器の組み合わせにより、異物分析を行うことができます。CCDカメラで試料の異物部分を特のうえX線を照射し、正常部分のスペクトラムとの差引きを行うことで異物の定性分析（Al〜U）ができます。
5. データ編集機能
MS-EXCELとMS-WORDを標準搭載しています。
MS-EXCEL上では統計処理ソフトを装備しており、測定データ、平均値、最大・最小値、C.V.値、Cpk等の統計処理が可能です。
また、MS-WORDマクロソフトにより、試料画像を含む測定結果報告書が容易に作成できます。
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