フォトマスクリペア

参考文献リスト

2008年

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萩原良二, 高岡修 "45nmノード対応フォトマスク欠陥修正装置", 電子材料（工業調査会）,3月号（2008）

2007年

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2006年

F. Aramaki, T. Kozakai, M. Muramatsu, Y. Sugiyama, Y. Koyama, O. Matsuda, K. Suzuki, M. Okabe, T. Doi, R. Hagiwara, T. Adachi, A. Yasaka, Y. Tanaka, O. Suga, N. Nishida, and Y. Usui, “Advanced Photomask Repair Technology for 65nm Lithography (5)”, Proc. of SPIE, Vol.6283, pp628310-1-628310-8(2006)

F. Aramaki, T. Kozakai, M. Muramatsu, Y. Sugiyama, Y. Koyama, O. Matsuda, K. Suzuki, M. Okabe, T. Doi, R. Hagiwara, T. Adachi, A. Yasaka, Y. Tanaka, O. Suga, N. Nishida, and Y. Usui, “Advanced Photomask Repair Technology for 65nm Lithography (6)”, Proc. of SPIE, Vol.6349, pp63491E-1-63491E-7(2006)

高岡修, “FIBとSPMを用いたフォトマスク欠陥修正技術”, 超精密位置決め専門委員会定例会講演前刷集, No.2006-2, pp11-18(2006)

2005年

Y. Itou, Y. Tanaka, O. Suga, Y. Sugiyama, R. Hagiwara, H. Takahashi, O. Takaoka, T. Kozakai, O. Matsuda, K. Suzuki, M. Okabe, S. Kikuchi, A. Uemoto, A. Yasaka, T. Adachi, and N. Nishida, “Advanced Photomask Repair Technology for 65nm Lithography (3)”, Proc. of SPIE, Vol.5853, pp1000-1008(2005)

Y. Itou, Y. Tanaka, O. Suga, Y. Sugiyama, R. Hagiwara, H. Takahashi, O. Takaoka, T. Kozakai, O. Matsuda, K. Suzuki, M. Okabe, S. Kikuchi, A. Uemoto, A. Yasaka, T. Adachi, and N. Nishida, “Advanced Photomask Repair Technology for 65nm Lithography (4)”, Proc. of SPIE, Vol.5992, pp59924Y-1-59924Y-8(2005)

2004年

Y. Itou, Y. Tanaka, N. Yoshioka, Y. Sugiyama, R. Hagiwara, H. Takahashi, O. Takaoka, J. Tashiro, K. Suzuki, M. Okabe, S. Kikuchi, A. Uemoto, A. Yasaka, T. Adachi, N. Nishida, and T. Ozawa, “Advanced Photomask Repair Technology for 65nm Lithography (1)”, Proc. of SPIE, Vol.5446, pp301-312(2004)

Y. Itou, Y. Tanaka, N. Yoshioka, Y. Sugiyama, R. Hagiwara, H. Takahashi, O. Takaoka, T. Kozakai, O. Matsuda, K. Suzuki, M. Okabe, S. Kikuchi, A. Uemoto, A. Yasaka, T. Adachi, N. Nishida, and T. Ozawa, “Advanced Photomask Repair Technology for 65nm Lithography (2)”, Proc. of SPIE, Vol.5567, pp1132-1143(2004)

Y. Yamamoto, M. Hasuda, H. Suzuki, M. Sato, O. Takaoka, H. Matsumura, N. Matsumoto, K. Iwasaki, R. Hagiwara, K. Suzuki, Y. Ikku, K. Aita, T.Kaito, T. Adachi, A. Yasaka, “FIB Mask Repair Technology for Electron Projection Lithography”, Proc. of SPIE, Vol.5446, pp348-356(2004)

2003年

R. Hagiwara, A. Yasaka, K. Aita, O. Takaoka, Y. Koyama, T. Kozakai, T. Doi, M. Muramatsu, K. Suzuki, Y. Sugiyama, O. Matsuda, M. Okabe, S. Shinohara, M. Hasuda, T. Adachi, Y. Morikawa, M. Nishiguchi, Y. Satoh, N. Hayashi, T. Ozawa, Y. Tanaka, and N. Yoshioka, “Advanced Photomask Repair Technology for 100nm/ArF Lithography (2)”, Proc. of SPIE, Vol.5130, pp510-519(2003)

Y. Tanaka, Y. Itou, N. Yoshioka, R. Hagiwara, A.Yasaka, O. Takaoka, T. Kozakai, Y. Koyama, H. Sawaragi, Y. Sugiyama, M. Muramatsu, T. Doi, K. Suzuki, M.Okabe, M. Shinohara, O. Matsuda, K. Aita, T. Adachi, Y. Morikawa, M. Nishiguchi, Y. Satoh, and N. Hayashi, “Advanced Photomask Repair Technology for 90nm/ArF Lithography (3)”, Proc. of SPIE, Vol.5256, pp526-537(2003)

八坂行人, 萩原良二, 高岡修, 小山喜弘, 中川良知, 荒巻文朗, 小堺智一, 松田修, 相田和男, 土井利夫, 村松正司, 鈴木勝美, 山本洋, 鈴木浩之, 篠原正至, 荷田昌克, “集束イオンビームによるマスク修正技術”, NGL2003次世代リソグラフィワークショップ予稿集, pp126-128(2003)

2002年

R. Hagiwara, A. Yasaka, K. Aita, O. Takaoka, Y. Koyama, T. Kozakai, T. Doi, M. Muramatsu, K. Suzuki, Y. Sugiyama, H. Sawaragi, M. Okabe, S. Shinohara, M. Hasuda, T. Adachi, Y. Morikawa, M. Nishiguchi, Y. Satoh, N. Hayashi, T. Ozawa, Y. Tanaka, and N. Yoshioka, “Advanced Photomask Repair Technology for 100nm/ArF Lithography ”, Proc. of SPIE, Vol.4889, pp1056-1064(2002)

2001年

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R. Hagiwara, A. Yasaka, O. Takaoka, T. Kozakai, S. Yabe, Y. Koyama, M. Muramatsu, T. Doi, K. Suzuki, M . Okabe, K. Aita, T. Adachi, S. Kubo, N. Yoshioka, H. Morimoto, Y. Morikawa, K. Iwase, and N. Hayashi, “Advanced Photomask Repair Technology for ArF Lithography (3)”, Proc. of SPIE, Vol.4409, pp555-562(2001)

2000年

K. Hiruta, S. Kubo, H. Morimoto, A. Yasaka, R. Hagiwara, T. Adachi, Y. Morikawa, K. Iwase and N. Hayashi, “Advanced Photomask Repair Technology for ArF Lithography”, Proc. of SPIE, Vol.4066, pp522-530(2000)

1999年

N. Nishida, Y. Nishio, H. Kinoshita, O. Takaoka, T. Kozakai, and K. Aita, “Development of focused-ion beam repair for opaque defects on MoSi-based attenuated phase-shift mask”, Proc. of SPIE, Vol.3748, pp599-608(1999)

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1997年

岩崎、杉山、小山、八坂、足立、『集束イオンビーム装置』、1998年版電子材料別冊超LSI製造試験装置ガイドブック p.197(1997)

1991年

八坂、皆藤、足立、『集束イオンビーム装置』、1992年版電子材料別冊超LSI製造試験装置ガイドブック p.87(1991)

1986年

山本、『SIR-1000フォトマスクリペア装置』、月刊Semiconductor World 1月号 p.97(1986)

1985年

相田、佐藤、山本、『集束イオンビーム装置』、1986年版電子材料別冊LSI製造試験装置ガイドブック p.115(1985)