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試験所

 フォトマスクリペア

 全4製品 
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【本体】

SIR5000

SIR-7
フォトマスクリペア装置
SIR-7は、65nmノードから45nmノードの半導体デバイス用フォトマスクやレチクル上の欠陥を、集束イオンビーム（FIB）を用いて修正する装置です。低加速鏡筒を採用することにより、バイナリーマスクや位相シフトマスクなどフォトマスク上の微小な欠陥や複雑な形状の欠陥を、高精度かつ低ダメージで修正する事が可能です。
SIR-7 フォトマスクリペア装置
SPI4000

SIR-5
フォトマスクリペア装置
フォトマスク上に生じる10µm以上の大型白欠陥を、集束イオンビーム（FIB)を用いて修正するフォトマスク欠陥修正装置です。最先端のプラットフォームに、長年培ってきた修正技術を取り入れて、使いやすくかつ高精度な欠陥修正を実現しました。
SIR-5 フォトマスクリペア装置
SPI4000

SPR6300

SPM型フォトマスクリペア装置
走査型プローブ顕微鏡の技術をフォトマスク欠陥修正に応用し、フォトマスク上の黒欠陥を、ダイヤモンド探針を用いて修正する装置です。これまで集束イオンビーム（FIB）やレーザーを用いた修正技術では難しいとされていた微小な異物の除去や孤立欠陥の修正を可能にしました。
SPM型フォトマスクリペア装置　SPR6300
SPI4000 SIR8000
液晶用フォトマスクリペア装置
液晶フォトマスク修正に半導体用フォトマスク欠陥修正装置に用いられるFIB修正技術を導入し、白欠陥、黒欠陥の両欠陥に対する高い修正精度を実現しています。FIBを用いたリペア装置としては初めて、第7世代以降のFPD大型フォトマスクへの対応しています。
液晶用マスク欠陥修正（マスクリペア）装置 SIR8000
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