フォトマスクリペア装置 SIR-7

品名	フォトマスクリペア装置

型式

概要	SIR-7は、65nmノードから45nmノードの半導体デバイス用フォトマスクやレチクル上の欠陥を、集束イオンビーム（FIB）を用いて修正する装置です。低加速鏡筒を採用することにより、バイナリーマスクや位相シフトマスクなどフォトマスク上の微小な欠陥や複雑な形状の欠陥を、高精度かつ低ダメージで修正する事が可能です。