セイコーインスツル株式会社（略称：SII、社長：新保雅文、本社：千葉県千葉市）の100％子会社で計測分析装置の製造販売を行っているエスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社（略称：SIIナノテク、社長：川崎賢司、本社：千葉県千葉市）は、めっき・蒸着等の極微小部のナノオーダー膜厚を高精度に測定する蛍光X線膜厚計「SFT9500Xシリーズ」を本日12月19日に発売しました。なお出荷は2012年2月上旬の予定です。

高性能蛍光X線膜厚計 SFT9550X

　半導体、電子部品、プリント基板に使用されるめっき・蒸着等の金属薄膜の膜厚・組成を測定し管理することは、機能、品質、コストを確保する上で不可欠です。特に近年は、電子機器の高機能化、小型化により、コネクタやリードフレームなど電子部品の微細化も進んでいます。これに伴って、めっき・蒸着など金属薄膜厚の測定は、数十ミクロンレベルの極微小部かつナノメートルオーダーでの精度が求められています。

　「SFT9500Xシリーズ」は、新たなX線集光光学系（キャピラリ）とX線源の組み合わせにより、照射径30μmφでの高輝度X線ビーム照射を可能としました。これにより、従来の蛍光X線膜厚計では照射強度不足で十分な精度が得られなかった、リードフレーム、コネクタ、フレキシブル基板等の極微小部の正確、迅速な測定ができるようになりました。

　SIIナノテクは1978年に世界で初めて卓上型の蛍光X線膜厚計を発売以来、日本国内のみならず海外市場に向けても積極的に販売、ユーザーから高い評価をいただいています。今回販売した「SFT9500Xシリーズ」は、長年にわたり蓄積した蛍光X線の微小部測定技術を結集させた高性能蛍光X線膜厚計です。今後、電子部品、金属素材、めっき加工などの業界へ販売を進め、電子機器の性能・品質向上に貢献してまいります。

【SFT9500Xシリーズの主な特長】

(1)極微小部の薄膜・多層膜測定
新型のキャピラリ（X線集光光学系）とX線源の採用により、従来機（SFT9500）と同等な強度のX線を30μmφの極微小領域に集光します。これにより、測定精度を損ねることなく、数十ミクロンレベルの微小領域の膜厚測定ができます。あわせて、数十ナノメートルオーダーのAu/Pd/Ni/Cu多層膜も、各層の厚みを同時に高精度測定できます。

(2)マッピング測定
サンプルに微小ビームをXYスキャン（走査）するマッピング測定により、試料のめっき厚み分布や特定元素の含有分布を、二次元のマッピング画像データとして出力し、容易かつ迅速に観察できます。

(3)異物分析
高輝度微小ビームと高計数率検出器の組み合わせにより、微小な異物の定性分析を行うことができます。CCDカメラで試料の異物部分を特定のうえX線を照射し、正常部分のスペクトラムとの差引きを行うことで異物の定性分析（Al〜U）ができます。

【SFT9500Xシリーズの主な仕様】

以上

本製品についての詳細は、こちらをご覧ください。

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