SIIナノテク、蛍光Ｘ線膜厚計の新製品「SFT-110」を発売

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2010年3月15日

SIIナノテク、蛍光Ｘ線膜厚計の新製品「SFT-110」を発売

自動位置決め機能により、めっき膜厚を簡単迅速に測定

　   セイコーインスツル株式会社（略称：SII、社長：新保雅文、本社：千葉県千葉市）の100％子会社で計測分析装置の製造販売を行っているエスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社（略称：SIIナノテク､社長：北野進、本社：千葉県千葉市）は、自動位置決め機能により操作性が向上した「蛍光X線膜厚計SFT-110」を、5月初旬に発売します。

  半導体材料、電子部品、自動車部品等に使用されるめっき・蒸着等の金属薄膜の膜厚・組成を測定し管理することは、それら製品の機能、品質を維持し、コストを削減する上で不可欠です。SIIナノテクでは、1971年に国内で初めて非接触、短時間に高精度な測定ができる蛍光X線を用いた膜厚計を発売以来、累計6,000台の蛍光X線膜厚計を納入し、国内外からめっき膜厚、金属薄膜計測分野で高い支持を得てきました。

  このたびSIIナノテクでは膜厚測定のスループット（処理能力）向上のニーズに応えるため、新たに「自動位置決め機能」を搭載した「蛍光X線膜厚計SFT-110」を開発しました。自動位置決め機能により、試料台の上にサンプルを置くだけで、試料観察光学系の焦点を数秒以内に自動的に合わせることができます。これにより、従来は手動で逐次行っていた焦点合わせの操作が無くなり、測定にかかわるスループットが格段に向上しました。

  また近年、計測する部品の微細化に伴って、より微小な部分を高精度に測定したいとのニーズも増えています。SFT-110ではX線の微小ビームの高感度化を実現し、微小コリメータ（0.1、0.2mm）を用いた膜厚測定精度が向上しました。加えて、本機に搭載した新開発の薄膜FPソフトにより、厚み標準物質無しで最大5層10元素までの多層膜や合金膜の計測ができるなど、幅広いアプリケーションに対応します。SIIナノテクでは、今後もX線技術を駆使した製品展開により、製造業における品質管理や環境規制対応をサポートしてまいります。

【SFT-110の主な特徴】

1. 自動位置決め機能でスループット向上
サンプルを測定する場合、従来最大10秒かかっていた試料観察光学系の焦点合わせを3秒以内に行ないますので、位置決めの作業性が格段に向上します

2. 微小部分の膜厚測定精度を向上
X線光学系とサンプル間の距離を縮小する事などにより、微小コリメータ（0.1、0.2mm）を用いた膜厚測定精度が向上しました

3. 最大5層の多層膜測定
薄膜FPソフトにより、厚み標準物質がなくても、最大5層の多層膜で10元素までの測定ができます

4. 広域観察システム
最大250×200mmの試料全体像から測定位置を指定することができます

5. 大型プリント基板対応(オプション)
600×600mmの大型プリント基板の測定ができます

6. 低価格
従来機に比べ、機能向上を図りながら20%以上のプライスダウンを実現しました

【主な製品仕様】

検出器: 比例計数管

X線源: 空冷式小型Ｘ線管球

コリメータ: φ0.1、0.2㎜の2種

試料観察: CCDカメラ

試料ステージ移動量: 250（X）×200（Y）mm

試料最大高さ: 150mm

【価　格】 600万円から（税別）

【販売目標】　　初年度300台

以上

蛍光X線膜厚計 SFT-110

本件に関するお問合せ

【マスコミ】
セイコーインスツル株式会社
秘書広報部　井尾、森
TEL：043-211-1185

【お客様】
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
分析営業総括部　営業二部　佐伯
TEL：06-6871-8453

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