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:: お知らせ ::
2009年1月30日
高品位TEM試料作成装置(トリプルビーム®装置)開発により
新機械振興賞を受賞
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エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社(以下SIIナノテク)は、高品位TEM試料作成装置(トリプルビーム®装置)開発の業績により、財団法人機械振興協会より第6回新機械振興賞を受賞し、1月19日、東京プリンスホテルで表彰を受けました。
新機械振興賞とは、日本工業の一層の促進を図るため、独創性、革新性、経済性に優れた機械工業技術に係わる研究開発や実用化により、新製品の製造、品質、性能の改善や合理化に顕著な業績をあげたと認められる企業・大学や開発担当者を対象とし、財団法人機械振興協会(豊田章一郎会長)が授与するものです。
本年は各関係団体、国公立研究機関、学会等から37件の推薦があり、その後、書類審査で13件に絞られ、ヒアリングと現地調査を経て最終的にSIIナノテクを含む7件が受賞となりました。SIIナノテクが選定されたのは、微細化が進む半導体デバイスの構造を、原子レベルで観察する透過電子顕微鏡(TEM)向けの試料作製のために、集束イオンビーム(FIB)、電子ビーム(EB)、アルゴンビーム(Ar)を一体化したトリプルビーム®装置を開発し、熟練者でなくても高品位な試料を一貫して作製することを可能とした点が高く評価されたためです。
活力ある経済産業社会を支える技術革新のため、SIIナノテクではこれまで培ってきたオリジナル技術をさらに磨き、一層の貢献に努める所存です。
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表彰状 |
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トリプルビーム ®のイメージ図 |
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受賞対象となったトリプルビーム®装置 |
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