大型プリント基板対応の高性能蛍光X線膜厚計「SFT9500Ｌ」を発売

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2008年6月6日

大型プリント基板対応の高性能蛍光X線膜厚計「SFT9500Ｌ」を発売

大型試料の薄膜、多層膜を高精度に測定

　エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社（略称：SIIナノテク、社長：北野進、本社：東京都中央区新富2-15-5 RBM築地ビル、TEL：03-6280-0070）は、めっき・蒸着等の金属薄膜の膜厚を高精度に測定する蛍光X線膜厚計「SFT9500シリーズ」の大型プリント基板測定用モデル、「SFT9500L」を本日6月6日に発売します。

　プリント基板において、めっき・蒸着等の金属薄膜の膜厚・組成を測定し管理することは、それら製品の機能、品質、コストを確保する上で不可欠です。高機能を要求されるそれらのめっき製品は、現在ますます微小化・薄膜化の方向にあり、短時間で精確に膜厚測定を行うことが市場ニーズとなっています。

　今回新たにSFT9500シリーズのラインナップに加わった「SFT9500L」では、大型のプリント基板測定に対応するため、840mm（W）x 540（D）ｘ 50mm（H）の大型のステージを採用しました。従来は試料ステージのサイズに合わせ、試料切断が必要とされていた大型のプリント基板をそのまま測定することが可能です。2006年5月の発売より好評をいただいている、極薄のめっき・蒸着等の膜厚測定向けのSFT9500の高精度な膜厚測定・微小部分析機能はそのままに、大型プリント基板を非破壊で測定することが可能になりました。また、「SFT9500L」はSFT9500と同様に、めっき製品の膜厚測定のみならず、電気製品・自動車製品等の微小部分における、鉛など環境規制物質の定性・定量分析が可能です。当社では今後、プリント基板業界に向けて世界的に販売を展開していく予定です。

【SFT9500Ｌの主な特長】

1. 大型試料に対応
840mm（W）x 540（D）x 50mm（H）の大型ステージを採用し、最大620mm（W）x 520ｍｍ（D）の大型プリント基板を切断することなく測定することが可能です。

2. 薄膜・多層膜測定
プリント基板における多層膜（金/パラジウム/ニッケル/銅素材や金/ニッケル/銅）の各層厚みを数nmレベルで同時に測定することが可能です。X線集光系（キャピラリ）採用による微小ビーム（φ0.1mm）の高輝度化により、従来の最大50倍（当社比）のX線強度を検出することで薄膜を精度良く測定します。

3. 分析機能
当社独自の、高計数率、かつ高分解能の液化窒素レス半導体検出器Vortexの搭載により、未知試料の定性・定量が行えます。また、微小ビームにより異物の分析を行えます。

4. データ編集機能
Microsoft®　ExcelとMicrosoft® Wordを標準搭載しています。Microsoft® Excel上では統計処理ソフトを装備しており、測定データ、平均値、最大・最小値、CV値、Cpk等の統計処理を行えます。また、Microsoft® Wordマクロソフトにより、試料画像を含む測定結果報告書が容易に作成できます。

【主な仕様】

線源：空冷式小型X線管（50kＶ，1mA）

検出器：半導体検出器（液化窒素レスタイプ）

コリメータ：実照射0.1ｍｍφ（キャピラリ方式）

試料観察： CCDカメラ（ズーム機能付き）

試料合わせ：レーザーポインター

試料ステージ： 840(X) x 540(Y) x 50(Z)mm

フィルタ：電動切替（1次：3ポジション）

操作部：パソコン、19インチ液晶モニタ

測定ソフト：検量線、FPソフト（バルク・薄膜）
オプション：マッピング、スペクトルマッチング

測定機能：自動測定、中心検索、画像処理

データ処理： Microsoft® Excel、Microsoft® Word搭載

安全機能：試料扉インターロック、装置診断機能

【価格】 1,900万円（税別）

【発売開始日】 2008年6月6日

【販売目標台数】 20台（2008年度）

高性能蛍光X線膜厚計 SFT9500L 装置外観

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以上

本件に関するお問合せ

【マスコミ】
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
広報グループ
TEL：03-6280-0061

【お客様】
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
営業二部
TEL：06-6871-8453

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