エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社（略称：SIIナノテク、社長：船本宏幸、本社：東京都中央区新富2-15-5 RBM築地ビル、TEL：03-6280-0070）は、大型のプリント基板・電子部品等におけるめっき・蒸着等の金属薄膜の膜厚を高精度に測定する蛍光X線膜厚計「SFT9550」を本日8月1日に発売します。

　 半導体、電子部品、プリント基板に使用されるめっき・蒸着等の金属薄膜の膜厚・組成を測定し管理することは、それら製品の機能、品質、コストを確保する上で不可欠です。高機能を要求されるそれらのめっき製品は、現在ますます微小化・薄膜化の方向にあり、ナノメートルオーダーでの精確な膜厚測定を行うことは市場ニーズとなっています。また、RoHS指令に代表される有害物質規制の動きは、これら極薄膜や微小部における組成分析の必要性を増大させています。

　 今回新たに発売される「SFT9550」は、膜厚測定市場における大型プリント基板の測定や複数試料の自動測定の要求に応え、400(X)×300(Y)×45(Z)mmまでの大型試料対応のステージを搭載した商品です。従来は試料ステージのサイズに合わせ、試料切断が必要とされていた大型のプリント基板やウェハーなどをそのまま測定することが可能です。2006年5月の発売より好評をいただいている、極薄のめっき・蒸着等の膜厚測定向けのSFT9500の高精度な膜厚測定・微小部分析機能はそのままに、大型試料測定のための前処理を軽減することが可能になりました。
　 「SFT9550」はSFT9500と同様に、めっき製品の膜厚測定のみならず、電気製品・自動車製品等の微小部分における、鉛などRoHS指令に代表される環境規制物質の定性・定量分析が可能です。SIIナノテクでは、電子・電気機器、部品メーカーを中心に販売を展開する予定です。

　 累積7000台の蛍光X線装置販売実績を誇るSIIナノテクでは、高輝度X線技術を駆使した製品展開により、微小レベルでの品質管理や環境規制対応をサポートします。

【高性能蛍光X線膜厚計SFT9550の主な特長】

1. 大型試料測定 大型ステージ搭載により、従来は切断しないと測定出来なかった大型試料（最大400(X)×300(Y)×45(Z)mm）をそのまま測定できます。また、多数の小型試料をステージ上に並べ、連続で自動測定を行うことができます。

2. 薄膜・多層膜測定 半導体・電子部品の分野における多層膜（金/パラジウム/ニッケル/銅素材や金/ニッケル/チタン/シリコンウェハー）における各層厚みを数nmレベルで同時に測定することが可能です。X線集光系（キャピラリ）採用による微小ビーム（φ0.1mm）の高輝度化により、従来の最大50倍（当社比）のX線強度を検出することで薄膜を精度良く測定します。リードフレーム、コネクタ、フレキシブル基板等の微小・薄膜の測定に対応します。

3. マッピング測定 微小ビームによるマッピング測定により、試料のめっき厚み分布や特定元素の含有分布を容易かつ迅速に観察できます。 特に実装基板における鉛フリーはんだ箇所のチェックに効力を発揮します。

4. 分析機能 高計数率、かつ高分解能の液化窒素レス半導体検出器「Vortex」の搭載により、未知試料の定性・定量が行えます。また、微小ビームにより異物の分析を行えます。

5. データ編集機能 Microsoft®　ExcelとMicrosoft® Wordを標準搭載しています。Microsoft® Excel上では統計処理ソフトを装備しており、測定データ、平均値、最大・最小値、CV値、Cpk等の統計処理を行えます。また、Microsoft® Wordマクロソフトにより、試料画像を含む測定結果報告書が容易に作成できます。

【主な仕様】

【価格】 1,490万円（予定）

【発売開始日】 2007年8月1日

【販売目標台数】 20台（2007年度）

高性能蛍光X線膜厚計 SFT9550 装置外観

以上

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