エスアイアイ･ナノテクノロジー株式会社（社長：船本宏幸、本社：東京都中央区新富 2-15-5 RBM築地ビル、TEL：03-6280-0070、以下SIIナノテク）とナノインクInc.（社長：Dr. セドリック ロアレ ベルナル、本社：米国イリノイ州スコーキー）は、半導体製造装置に関連する分野において、ナノスケールソリューションを提供するために独占的なライセンス及び共同開発契約を締結しました。

　両社は、ナノインクが保有するナノマシニングプラットフォームとSIIナノテクが保有するプローブ顕微鏡（SPM）や集束イオンビーム(FIB)を応用した半導体関連装置技術を統合するために、ナノインクが所有する特許ディップペンナノリソグラフィ(DPN®)の改良に係わるプロジェクトを共同で行います。

　SIIナノテクはFIB技術を応用した半導体関連装置を1985年に発表して以来、常に最新技術を応用した装置を半導体関連市場に供給し続けております。また、1987年にはSPMを日本で初めて商品化し、半導体分野にもその応用範囲を広げています。
　ナノインクは2001年に設立されて以来、ナノスケール構造物のプラットフォーム技術開発を行っています。現在は100以上の関連特許を取得、又は申請中であり、また、米国ノースウエスト大学、スタンフォード大学、イリノイ大学とライセンス契約を結んでいます。

　両社は、コンピュータチップノードが65nmや45nmへ微細化するのに伴い、ナノインクのDPN®で供給される新技術が半導体関連装置でますます重要になると予想しており、共同開発作業は日本と米国の両方で行われます。

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