エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社（略称：SIIナノテク、社長：船本宏幸、本社：東京都中央区新富2-15-5 RBM築地ビル、TEL：03-6280-0070）は、めっき・蒸着等の金属薄膜の膜厚を高精度に測定する蛍光X線膜厚計「SFT9500」の販売を開始しました。

　半導体、電子部品、プリント基板に使用されるめっき・蒸着等の金属薄膜の膜厚・組成を測定し管理することは、それら製品の機能、品質、コストを確保する上で不可欠です。高機能を要求されるそれらのめっき製品は、現在ますます微小化・薄膜化の方向にあり、ナノメートルオーダーでの精確な膜厚測定を行うことは市場ニーズとなっています。また、RoHS指令に代表される有害物質規制の動きは、これら極薄膜や微小部における組成分析の必要性を増大させています。

　この度SIIナノテクでは、微小・薄膜測定に対応した蛍光X線膜厚計として「SFT9500」を開発しました。このSFT9500では、X線発生系として、X線集光光学系（キャピラリ）とX線源を組み合わせ、実照射0.1mmφ以下での高輝度X線ビーム照射を可能としています。これにより、従来の蛍光Ｘ線膜厚計では照射強度不足で十分な精度が得られなかった、リードフレーム、コネクタ、フレキシブル基板等の微小・薄膜の測定に対応できるようになりました。また、高計数率、かつ高分解能の半導体検出器の搭載により、めっき製品の膜厚測定に加え、欧州RoHS＆ELVで規制されている有害物質の、微小部における測定にも対応できます。

　SIIナノテクの蛍光X線膜厚計は、1978年に開発を開始して以降、日本国内のみならず海外市場に向けても積極的に販売を展開しており、販売実績合計は5000台を超えています。
　今回販売を開始したSFT9500は、現在のめっき厚み測定の市場ニーズに応えるべく、SIIナノテクが長年に渡り蓄積した蛍光X線の微小部測定技術と業界最高水準の検出感度を誇る有害金属分析技術を融合させた高性能蛍光X線膜厚計です。

【SFT9500の主な特長】

1. 薄膜・多層膜測定
キャピラリの採用による微小ビーム（0.1ｍｍφ）の高輝度化の効果により、金めっき膜厚測定においては従来の最大50倍（当社比）のX線強度を検出することで、数ナノメートルの薄膜を精度良く測定します。また、Au/Pd/Ni/CuやAu/Ni/Ti/Si等の多層膜における各層厚みを同時に高精度測定できます。

2. マッピング測定
微小ビームによるマッピング測定により、試料のめっき厚み分布や特定元素の含有分布を容易に且つ迅速に観察できます。

3. 欧州RoHS・ELV規制対応の有害物質測定
高分解能の半導体検出器（液化窒素レス）を搭載し、測定試料中の微量元素の検出を可能としており、電気・自動車製品の部材として使用される鉛フリーはんだや無電解ニッケルに含まれる鉛等の規制有害物質の含有量を測定できます。

4. 異物分析
高輝度微小ビームと高計数率検出器の組み合わせにより、異物分析を行うことができます。CCDカメラで試料の異物部分を特定のうえX線を照射し、正常部分のスペクトラムとの差引きを行うことで異物の定性分析（Al〜U）ができます。

5. データ編集機能
MS-EXCEL®とMS-WORD®を標準搭載しています。
MS-EXCEL®上では統計処理ソフトを装備しており、測定データ、平均値、最大・最小値、C.V.値、Cpk等の統計処理が可能です。
また、MS-WORD®マクロソフトにより、試料画像を含む測定結果報告書が容易に作成できます。

【価格】
1,450万円（税別）

【発売開始日】
2006年5月1日

SFT9500装置外観

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