エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社（略称：SIIナノテク、社長：船本 宏幸、本社：東京都中央区新富2-15-5 RBM築地ビル、TEL：03-6280-0070）は、先端半導体用フォトマスクの製造および検査で必須となる、マスクデータを検証する専用ソフトウェアのマスクルールチェッカー「SmartMRC(スマート エムアールシー)」を大日本印刷株式会社と共同で開発し、2006年4月より販売を開始します。

近年、半導体の微細化に伴うリソグラフィ限界に対応するため、アグレッシブOPC*1および強いRET*2が適用されてきています。フォトマスクに対しては微小パターンが増大する中でデータ量が膨大化し、品質要求が大変厳しくなってきています。これがマスク製造・検査時間の長期化を招き、コストの増大と納期を長くする原因となっています。SmartMRCはマスク設計データをマスク製造の前段階でコンピュータを用いて、マスク製造・検査工程での諸問題を事前に抽出、チェックするツールです。SmartMRCで事前データチェックを行うことにより、マスク製造欠陥、マスク検査擬似エラーを抑制し、マスクコスト増大を抑制するとともに納期の短期化を支援します。

【SmartMRCの主な機能】
(1) マスクデータに対するマスク描画および検査の限界チェック。
(2) 製造されたマスク上のパターン均一性確認のためのSEM*3用測長のポイントの抽出。
(3) マスクデータ変換、マスクデータ差し替え時のデータ内容チェック。

【SmartMRCの主な特徴】
(1) マスクデータのチェックに際して、マスクデータをGDSフォーマット*4に変換することなく直接読み込むことができます。
(2) マスクデータ特有のリバースパターンもそのまま処理することができるため、チェックのための無駄なデータ変換処理を行う必要がありません。
(3) 処理ではネットワーク分散を行うことができ、数十台規模のリニアな並列処理による高い効率を実現しています。

【価格】
基本フルセット　3000万円/CPUから

なお、当社では4月18日〜20日にパシフィコ横浜で開催されるPhotomask Japan 2006（第13回ホトマスク技術展示会）においてSmartMRCの展示および成果発表を行う予定です。

SmartMRC機能イメージ図

以上

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