エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社（略称：SIIナノテク、　社長：船本宏幸、本社：東京都中央区新富2-15-5 RBM築地ビル　電話：03-6280-0070）は、液晶などのフラットパネル用フォトマスクの欠陥を修正するフォトマスク欠陥修正装置「SIR8000」を世界で初めて*12月より発売します。（*FIBを用いた1400mmx1600mmの大型液晶フォトマスク修正装置として。）

　フラットパネルディスプレイ(FPD)の高精細化にともない液晶やカラーフィルタなどの微細化が進む一方、フォトマスクのグレートーンマスクも実用化され、フォトマスクへの要求は一段と厳しくなっています。またコストダウンが叫ばれる液晶業界にとって、フォトマスクの修正による歩留まり向上は非常に重要となってきています。その中で、従来のレーザー修正装置では修正が困難な欠陥が増大し、半導体フォトマスク修正で使われている集束イオンビーム（FIB）を用いた高精度な修正装置の必要性が増してきました。

　SIIナノテクは、世界で初めて1985年にFIBによる半導体用フォトマスク欠陥修正装置を販売し、国内外で高いシェアを確保しています。この技術を生かし、1993年には508mm X 609mmの液晶用マスクに対応した白欠陥修正装置を発売しました。

　今回発売を開始する液晶用フォトマスク欠陥修正装置「SIR8000」は、液晶フォトマスク修正に半導体用フォトマスク欠陥修正装置に用いられるFIB修正技術を導入し、白欠陥、黒欠陥の両欠陥に対する高い修正精度を実現しています。白欠陥修正に用いられるFIBのカーボンデポジション機能による形成膜は強い付着強度をもっており、信頼性の高い修正が可能です。また、現在実用化が進められているハーフトーン膜のマスクの修正にも対応しています。「SIR8000」は、FIB技術を採用したフォトマスク修正装置としては世界で初めて*、第7世代以降のFPD大型フォトマスクへの対応を実現しており、大型化の進行により作成が一層困難となってきているフォトマスクの高精度修正に有効な装置です。


【SIR8000の主な特長】

1.　最大1400mm X 1600mmの大型フォトマスクの修正を実現
FIBによるフォトマスク欠陥修正には、真空チャンバーを必要としますが、このたびローテーションステージを採用することにより、最大1400mm X 1600mmの大型マスク上の欠陥修正を可能としました。

2.　修正精度25nm以下（3σ）で任意形状欠陥の修正を実現
半導体用フォトマスク修正装置で培ってきたFIB技術を利用することにより、25nm以下の修正精度で任意形状の欠陥修正を実現することに成功しました。また0.3μm以下の欠陥の観察に加え、修正も可能です。

3. 強い付着強度をもつ修正膜
特殊なガスを用いることにより、Cr膜に劣らない強い付着強度の膜を形成できます。

4.　 グレートーンマスクの欠陥修正も実現
現在実用化が進められているハーフトーン膜を用いたグレートーンマスク上の白欠陥も、FIBによるカーボンデポジションを利用することにより修正することが可能です。

【装置サイズ】
W6000mm X D7200mm X H3600mm

【価格】
SIR8000本体 10億円 （税別）

【発売開始】
2005年12月1日

以上

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