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エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
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2008年10月27日

セミコン・ジャパン 2008出展のご案内


エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社では、12月3日から幕張メッセにて開催される
「セミコン・ジャパン2008」に出展いたします。

【開催概要】

会期: 2008年12月3日(水)~5日(金)
会場: 幕張メッセ(1〜11ホール、イベントホール、国際会議場)
千葉市美浜区中瀬2-1
地図
入場料: 無料
セミコン・ジャパン 2008 オフィシャルサイトの事前登録をご利用ください


 SIIナノテク出展概要

【ブース】 ホール2 ブースNo.2C-622
ブースマップ

【出展製品】

         
  集束イオンビーム装置  
集束イオンビーム装置
XVision 300DB/TB
  集束イオンビーム装置
XVision 200DB/TB
 

集束イオンビーム装置

SMI500

         
  電子顕微鏡   NVision40
カールツァイス製FE-SEM
ULTRA plus
  カールツァイス製FE-SEM
ULTRA55
  FIB-SEMダブルビーム装置
Nvision 40
         
NanoNaviステーション   L-traceII   走査型プローブ顕微鏡
プローブステーション
NanoNaviステーション
  走査型プローブ顕微鏡
大型ステージユニット
L-traceII
  走査型プローブ顕微鏡
多機能型ユニット
S-image
         
E-sweep   フォトマスクリペア装置 SIR7   E-sweep
走査型プローブ顕微鏡
環境制御型ユニット
E-sweep
  フォトマスクリペア装置
SIR-7
  半導体製造支援ソフト
マスクルールチェッカー
SmartMRC
         
  SFT9500    

蛍光X線分析装置
HSFinder

SEA6000VX

  高感度蛍光X線膜厚計
SFT9500
   


 第10回プライベートセミナーのご案内


セミコン・ジャパン2008の開催に合わせて、今年で10回目を迎える「プライベートセミナー」を開催いたします。
本セミナーでは、最先端技術分野でご活躍されている方を講師としてお招きしご講演をいただいております。今年は主に半導体プロセス、故障解析、最先端の観察・加工分野でご活躍中の方々からの日ごろの研究成果やアプリケーション事例のご紹介をいただきます。

日  時: 2008年 12月 3日(水)13:00〜17:30
場  所: ホテル ザ・マンハッタン(千葉・幕張メッセ近く)
〒261-0021千葉県千葉市美浜区ひび野2-10-1
電話:043-275-1111
地図
参加費用: 無料
主催: エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
お問合せ: エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
ビームテクノロジー営業総括部 担当:岡田(おかだ)
TEL: 03-6280-0067 / FAX: 03-6280-0073


※1 このプライベートセミナーは主に評価・解析・分析業務に従事されていらっしゃるお客様を対象として開催させていただくものです。競合他社の方のお申込は、お断りする場合がある旨をご了承ください。講演内容等詳細については、上記の窓口にお問合せください。

※2 既にプログラムをお持ちでセミナーへの参加を希望される方は、下記のオンラインフォームよりお申込みください。

※3 受講の可否につきましては、お申し込み1週間以内に、弊社より「受講票」をFAXにて送信いたします。なお、誠に勝手ながら定員になり次第、締め切らせていただきますので、予めご了承願います。

【オンライン申込フォーム】

•第10回プライベートセミナー

※オンライン申込受付を終了いたしました。


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