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エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社では、12月5日から幕張メッセにて開催される「SEMICON Japan 2007」に出展します。
【開催概要】
なお、12月7日に開催される「SEMIテクニカルシンポジウム 7：リソグラフィ&マスク 2」において、弊社技術総括部 加藤心が『DFM指向のMRC(マスクルールチェック)技術』と題した講演を行います。詳しくはオフィシャルサイトよりご覧下さい。
| 【ブース】 ホール2 ブースNo.2A-509 |
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【出展製品】
弊社はセミコン・ジャパン2007の開催に合わせて、プライベートセミナーを開催いたします。今年で9回目を迎える本セミナーでは、最先端技術分野でご活躍されている方を講師としてお招きしご講演をいただいております。今年は主に半導体プロセス、故障解析、最先端の観察・加工分野でご活躍中の方々からの日ごろの研究成果やアプリケーション事例のご紹介をいただきます。
| 日 時： |
2007年 12月 5 日（水）13:00〜17:30 |
| 場 所： |
ホテル ザ・マンハッタン（千葉・幕張メッセ近く）
〒261-0021千葉県千葉市美浜区ひび野2-10-1
電話：043-275-1111
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| 参加費用： |
無料 |
| 主催： |
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 |
| お問合せ： |
エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 BT営業部
大場(おおば)・飯高(いいだか)
TEL: 03-6280-0067 |
※1 このプライベートセミナーは主に評価・解析・分析業務に従事されていらっしゃるお客様を対象として開催させていただくものです。講演内容等詳細については、上記の窓口にお問合せください。
※2 既にプログラムをお持ちでセミナーへの参加を希望される方は、下記のオンラインフォームよりお申込みください。
※3 受講の可否につきましては、お申し込み1週間以内に、弊社より「受講票」をFAXにて送信いたします。なお、誠に勝手ながら定員になり次第、締め切らせていただきますので、予めご了承願います。
•オンライン申込みフォーム(*受付終了いたしました。)
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