エスアイアイ・ナノテクノロジーは2009年4月8日（水）から2日間、パシフィコ横浜にて開催されるPhotomask Japan 2009のホトマスク技術展示会に出展いたします。 Photomask Japanは、世界中のフォトマスクやNGLマスク、その他関連技術の技術者や研究者が一堂に会し、研究成果やアプリケーション、将来動向について議論することを目的とした国際シンポジウムです。

会期:	2009年4月8日（水）~9日（木） *Photomask Japan 2009は4月8日（水）~10日（金）
会場:	パシフィコ横浜・アネックスホール

詳しくは、Photomask Japan 2009オフィシャルサイトをご覧下さい。