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2007年3月23日
Photomask Japan 2007（ホトマスク技術展示会）出展のご案内
エスアイアイ・ナノテクノロジーは2007年4月17日（火）から3日間、パシフィコ横浜にて開催されるPhotomask Japan 2007のホトマスク技術展示会に出展いたします。 Photomask Japanは、世界中のフォトマスクやNGLマスク、その他関連技術の技術者や研究者が一堂に会し、研究成果やアプリケーション、将来動向について議論することを目的とした国際シンポジウムです。
【開催概要】
| 会期: |
2007年4月17日（火）〜18日（水）
(Photomask Japan 2007は4月17日〜19日) |
| 会場: |
パシフィコ横浜・アネックスホール
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【SIIナノテク出展概要】
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